低辐射薄膜的光电性能及热稳定性
书 号：9787113276454
丛 书 名：
作 者：杨静凯
译 者：
开 本：16开
装 帧：精装
正文语种：汉文
出 版 社：中国铁道出版社
定 价：80元
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内容简介
材料专业教材和材料科技著作是我部门和我本人重点开发的方向。低辐射薄膜的热稳定性能具有重要的理论意义和实用价值，但尚未得到系统地研究和表征。本书首先对低辐射薄膜的研究现状、存在问题、制备方法和表征手段等方面进行论述，然后分别以化学气相沉积法制备的掺杂F的SnO2（FTO）低辐射薄膜和磁控溅射法制备的Ag基低辐射薄膜为研究对象，探讨了低辐射薄膜的光电性能及导电机理，最后指出了低辐射薄膜的发展方向。本书深入研究低辐射薄膜在后期高温处理过程中表面结构和各种成分的发展和演化，了解其光电性能的温度效应和时间效应，是揭示其性能变化机理的基础和前提，为一些理论推测提供一定的数据支撑，同时对于优化膜系设计、改善镀膜工艺和钢化工艺具有十分重要的价值，进一步丰富镀膜玻璃的理论知识。 -
前言
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目录
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作者介绍
杨静凯，副教授，硕士生导师。2014年1月毕业于燕山大学材料科学与工程学院（亚稳材料制备技术与科学国家重点实验室）材料学专业，获得工学博士学位。现留校任教。承担863、国家自然科学基金、河北省自然科学基金、河北省教育厅拔尖人才计划等重要项目，发表学术论文30余篇，其中SCI论文23篇，重点研究无机材料的缺陷行为与性能之间的构效关系。 -
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